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伯东企业(上海)有限公司

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首页 > 供应产品 > 上海伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140
上海伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140
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产品: 浏览次数:493上海伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140 
品牌: 美国KRI
单价: 面议
最小起订量: 1 台
供货总量: 10000 台
发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2023-06-13 09:35
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详细信息


因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。


上海伯东代理美国原装进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中,射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现完美的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 最佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1000 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出最大 600 mA 离子流

 

KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:

型号

RFICP 140

Discharge 阳极

RF 射频

离子束流

 600 mA

离子动能

100-1200 V

栅极直径

14 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射

流量

5-30 sccm

通气

Ar, Kr, Xe,   O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

长度

24.6 cm

直径

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

KRI 射频离子源 RFICP 140 应用领域:

预清洗

表面改性

辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,

溅镀和蒸发镀膜 PC

离子溅射沉积和多层结构

离子蚀刻 IBE 


1978 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请参考以下联络方式

上海伯东: 邓小姐           

T: +86-21-5046-3511 ext 109   

F: +86-21-5046-1490     

M: +86 1391-883-7267     

台湾伯东: 王小姐

T: +886-3-567-9508 ext 161

F: +886-3-567-0049

M: +886-939-653-958

现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 邓小姐 1391-883-7267
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