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伯东企业(上海)有限公司

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首页 > 供应产品 > 上海伯东 KRI 霍尔离子源 eH 1000
上海伯东 KRI 霍尔离子源 eH 1000
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产品: 浏览次数:510上海伯东 KRI 霍尔离子源 eH 1000 
品牌: 美国KRI
单价: 面议
最小起订量: 1 台
供货总量: 10000 台
发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
有效期至: 长期有效
最后更新: 2023-06-13 09:33
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详细信息

因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。


上海伯东代理美国原装进口 KRI 霍尔离子源 eH 1000 高效气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.

尺寸: 直径= 5.7 = 5.5

放电电压 / 电流: 50-300V / 10A

操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体

KRI 霍尔离子源 eH 1000 特性:

 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 最大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极

 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率

 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便; 无需水冷

 高效的等离子转换和稳定的功率控制

KRI 霍尔离子源 eH 1000 技术参数:

型号

eH1000 /   eH1000L / eH1000x02/ eH1000LEHO

供电

DC magnetic confinement

  - 电压

40-300V VDC

  - 离子源直径

~ 5 cm

  - 阳极结构

模块化

电源控制

eHx-30010A

配置

-

  - 阴极中和器

Filament,   Sidewinder Filament or Hollow Cathode

  - 离子束发散角度

> 45°   (hwhm)

  - 阳极

标准或 Grooved

  - 水冷

前板水冷

  - 底座

移动或快接法兰

  - 高度

4.0'

  - 直径

5.7'

  - 加工材料

金属

电介质

半导体

  - 工艺气体

Ar, Xe, Kr,   O2, N2, Organic Precursors

  - 安装距离

10-36”

  - 自动控制

控制4种气体

* 可选: 可调角度的支架; Sidewinder


KRI 霍尔离子源 eH 1000 应用领域:

• 离子辅助镀膜 IAD

• 预清洗 Load lock preclean

• 预清洗 In-situ preclean

• Direct Deposition

• Surface Modification

• Low-energy etching

• III-V Semiconductors

• Polymer Substrates


1978 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请参考以下联络方式

上海伯东: 邓小姐           

T: +86-21-5046-3511 ext 109   

F: +86-21-5046-1490     

M: +86 1391-883-7267     

台湾伯东: 王小姐

T: +886-3-567-9508 ext 161

F: +886-3-567-0049

M: +886-939-653-958

现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 邓小姐 1391-883-7267
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