品牌:KRI
离子束流:>600 mA
栅极直径:14 cm Φ
流量:5-30 sccm
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上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅网离子源, 离子束可选聚焦, 平行, 散射.
离子束流: >600 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.
采用射频技术产生离子, 无需电离灯丝, 工艺时间更长, 更适合时间长的工艺要求. 提供高密度离子束, 满足高工艺需求.
离子源采用模块化设计, 方便清洁/ 保养/ 维修/ 安装.
非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀工艺.
伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:
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型号 |
RFICP 140 |
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Discharge |
RFICP 射频 |
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离子束流 |
>600 mA |
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离子动能 |
100-1200 V |
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栅极直径 |
14 cm Φ |
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离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
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流量 |
5-30 sccm |
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通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
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典型压力 |
< 0.5m Torr |
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长度 |
24.6 cm |
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直径 |
24.6 cm |
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中和器 |
LFN 2000 |
伯东KRI 考夫曼离子源 RFICP 140 应用领域：
1.预清洗
2.表面改性
3.辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
4.溅镀和蒸发镀膜 PC
5.离子溅射沉积和多层结构 IBSD
6.离子蚀刻 IBE