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K550 离子溅射镀膜机

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单价: 面议
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发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
所在地: 江苏
有效期至: 2011-09-06 [已过期]
最后更新: 2006-12-02 15:41
浏览次数: 28010
 
公司基本资料信息
详细说明
EMITECH K550 离子溅射镀膜机 K550X具有旋转样品台,它也可倾斜,非常适合各种样品使用。预选择参数及全自动控制使得精确镀层及重复厚度沉积更为方便。 使用磁电管靶在低电压时可提高效率,K550X能得到非常精细的颗粒,由于是冷溅射,所以无需冷却靶面或样品台。 腔室直径为165 mm(6英寸),非常方便装载及移走样品。 仪器装有60mm直径、0.1mm厚的金靶(或用户选择),提供最适合的性能价格比。可选靶材包括金/钯,铂/钯和铂。 功能集中在仪器面板上及即插即用电子学设计,最大的“up-time”,这些用户友好设计满足了不同学科的用户需求。 溅射参数可被预先设置,包括气体放气针阀,此阀为电磁阀,一旦设置,它就不需要再调节。溅射头互锁,系统可容易选配K250镀碳附件。 本仪器为全自动操作,可控制独立的真空泵。 仪器特点 ・高分辨率精细涂层(金颗粒达2 nm) ・均匀厚度沉积(用于扫描电镜的一般厚度为20nm 或200埃) ・可接膜厚监视器,实时监测镀覆层厚度 ・易操作 ・无需冷却样品台 ・精确的再次涂层 ・适合各种样品 ・膜厚度重复性好 ・容易装载或卸载样品 ・可预设沉积厚度 性能指标 1.仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 2.工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H 3.安全钟罩:聚碳酸酯 4.重量:18公斤 5.靶:60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面) 6.样品台直径为60 mm,靶面距离40mm,具有倾斜装置的旋转台 7.真空范围:ATM-1x10-4 mbar 8.沉积电流范围:0-50mA 9.沉积速率:0-25nm/分 10.溅射时间:0-4 分钟 11.预设置针阀:控制氩 12.电源:230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump)
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