电镜制样设备

英国Emitech溅射离子镀膜仪等仪器作为世界著名电镜制样设备之一,在电子显微镜(扫描电镜透射电镜)的样品制备领域中应用非常广泛。 特点 •低电压溅射 •高分辨率精细涂层(金颗粒达2 nm) •均匀厚度沉积(扫描电镜一般厚度为20nm 或200A) •165 mm(6英寸)腔室 •无需冷却样品台 •精确的再次涂层 •膜厚度重复性好 •容易装载或卸载样品 •可预设沉积厚度 仪器性能指标 1.仪器尺寸：450mm W x 350mm D x 175mm H 2.工作腔室：硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H 3.安全罩：聚碳酸酯 4.重量：18公斤 5.靶：60 mm 直径 x 0.1mm 厚(金作为标准靶面) 6.样品台：60 mm直径 7.真空范围：ATM-1x10-2 mbar 8.沉积电流范围：0-50mA 9.沉积速率：0-25nm/分 10.溅射时间：0-4 分钟 11.预设置针阀：控制氩 12.电源：230 伏 50Hz (10 amp max. including Pump) K500和K550的区别 K500:手动控制，样台不旋转 K550:全自动控制 K系列(K550/K575,K450,K850...)其它制样设备或电子显微镜（扫描电镜、透射电镜）附件： Sputter Coating Systems 离子溅射镀膜机(镀金、铂、铬...) Carbon Coating and Evaporation Systems 镀碳机和蒸镀机 Freeze Driers(Peltier/LN2 Cooled ) 冷冻干燥机(Peltier电制冷/液氮制冷) Critical Point Driers 临界点干燥机 RF Plasma (Ashing/Etching) Units 等离子蚀刻单元 Cryogenic Systems for Electron Microscopes 电镜低温系统 ESEM / VP Cooling Stage 环扫/可变真空冷台 Glow Discharge Unit 辉光放电单元