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K575X 电制冷型高真空溅射镀膜仪

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单价: 面议
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发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
所在地: 江苏
有效期至: 2011-09-09 [已过期]
最后更新: 2006-12-18 16:50
浏览次数: 27558
 
公司基本资料信息
详细说明
K575X使用“涡轮”泵,前级为旋片式机械泵,整个抽真空过程为自动控制。 真空度可调整,以适应铬或其它易氧化金属,以及金靶等不同材料要求,定时器可设置成不同的溅射时间。 本系统装配了磁控管靶,靶面直径为54 mm,可快速更换靶材。 溅射头用Peltier制冷,可得到高性能、精细颗粒的涂层(无需水冷却)。 溅射时参数可预设,包括气体放气电磁阀。 K575d(双头)其它与K575X相同,只是具有两个溅射头。在进行特殊涂层的应用时,不需要打开真空即可进行两层沉积溅镀。 注:K575d技术规格与K575X相同,但它具有两头。K575X具有peltier制冷,对于比较厚的沉积,通常用K575d(双头)单元,它需要用水冷却。 特点 ● 全自动控制 ● Peltier冷却溅射头 ● 精细镀层(0.5nm Cr粒子) ● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置 ● 薄膜沉积(典型为5nm) ● 直径为165mm腔室 ● 可选双溅射头 ● 可接膜厚测控仪 优点 ● 可溅射易氧化金属精细颗粒,如:铬或铱 ● 易操作 ● 无需水冷却 ● 超高分辨率,可复制涂层 ● 适应各种样品 ● 重复膜厚沉积 ● 样品容易装载和卸载 ● 不需要打开真空即可进行顺序涂层 ● 沉积厚度可预设 技术规格 仪器尺寸:450mm W x 350mm D x 175mm H 工作腔室:硼硅酸盐玻璃 165mm Dia x 125mm H 安全钟罩:聚碳酸酯 基座: 110 mm直径x 115mm高 重量:42公斤 靶:54 mm 直径 x 0.2mm 厚(铬作为标准靶材) 样品台:60mm直径,具有倾斜功能的旋转台 真空范围:ATM-1x10-5 mbar 操作真空:1 x 10-3 mbar到 1 x 10-4 mbar 溅射电流:0-150mA 沉积速率:0-20nm/分 溅射定时: 0-4 分钟 涡轮分子泵:60 litres/Second (极限真空 1x10-8 mbar) Services - Argon - Nominal 10 psi; Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas) 真空泵:No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr 电源:230 伏 50Hz(包括泵最大电流为6安培) 115 伏 60Hz(包括泵最大电流为12安培)
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